Tekonolosi o le Vī

O le fanua fa'amaneta ua mamanuina fa'apitoa e si'omia tutusa ai le faiga fa'ata'ita'i

Lelei tele le tutusa o le vaneina

Fa'a'ese'esega lelei

Malosiaga e mafai ona fetu'una'i i le vaneina

E leai se tausiga o vaega ua vaneina

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Tekonolosi Ufiufi PVD

O le metotia o le Physical Vapor Deposition (PVD) e faasino i le faagasologa o le fa'asuavaia o le fogāeleele o se mea (malosi po'o le vai) i ni atomu po'o ni molela'au kesi, po'o le fa'aionisi fa'a-ionisi i ni ions, e fa'aaoga ai metotia fa'aletino i lalo o tulaga o le vacuum, ma fa'aputuina se ata manifinifi ma ni galuega fa'apitoa i luga o le fogāeleele o le substrate e ala i se faiga o le kesi maualalo le mamafa (po'o le plasma). O le PVD o se tasi o tekinolosi autu o togafitiga o luga.

Tekonolosi ufiufi tu'ufa'atasi: E tu'ufa'atasia ai penefiti o le arc ma le magnetron sputtering i le puna e tasi o le fa'amamago:

Fa'apipi'iina o le Arc ion (AIP)

Maualuga le fua faatatau o le ionization

Mafiafia tele

Maualuga le fua faatatau o le teuina

Tele microparticle

Luga ma'ale'ale

Cathode tu'ufa'atasia G4

Maualuga le fua faatatau o le ionization

Mafiafia tele

Maualuga le fua faatatau o le teuina

Luga lamolemole, leai ni microparticles

Fa'alavelave tumau maualalo

Fa'aoso o le Magnetron (MS)

Luga lamolemole, leai ni microparticles

Fa'alavelave tumau maualalo

Maualalo le fua faatatau o le teuina

Maualalo le fua faatatau o le ionization

Tekonolosi Ufiufi PECVD

O le Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) o se faiga e fa'aputu ai ni vali 'apamemea 'apamemea e matuā lamolemole ma pipii i totonu o se siosiomaga e matuā vevela tele. Pe a fa'atusatusa i faiga PVD, o faiga PECVD e fa'aogaina ai sapalai eletise loloto, e le mana'omia ni cathode targets, ma e le mana'omia ona fa'ata'amilo le workpiece i totonu o le potu ogaumu. O lenei faiga o se faiga e mamā, e leai se fa'aleagaina, e fa'atuatuaina, ma e tele ona galuega.

● Meafaigaluega faigofie, e leai se isi puna o le ionization e manaʻomia

● Fuafuaga o le fanua maneta tu'ufa'atasi, fa'ateleina le fua faatatau o le ionization

● Saosaoa maualuga o le teuina>1μm/h

● Vevela maualalo o le teuina

● Lamolemole le fogāeleele, e leai se tele o le pisia o ni vaega laiti

● Oloa fa'amamā plasma, e leai se tausiga

Fa'ata'ita'iga o le fanua maneta tapunia e le paleni

Plasma maualuga-mafiafia

Oloa fa'amamā plasma

PECVD（mo le aC:H）

E faʻavae i luga o manaʻoga mo le teteʻe atu i le ofuina, faʻasusu, teteʻe atu i le ele, ma le malosi maualuga o le pipii o vaega, o le ufiufi DLC ua mamanuina faʻatulagaina e faʻavae i luga o le manatu o le fausaga tele-vaega, suiga o le gradient, ma le interface composite.

Fausaga ufiufi DLC

Mafiafia 2-4μm (e faʻalagolago i manaʻoga eseese)